Effect of GaN substrate thickness on the optical field of InGaN lasers diodes
Martin Alfonso, Juan Antonio; Sanchez, M.
Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM
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506.#.#.a: Público
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561.#.#.u: http://www.fciencias.unam.mx/
650.#.4.x: Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
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336.#.#.3: Artículo de Investigación
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351.#.#.6: https://rmf.smf.mx/ojs/rmf/index
351.#.#.b: Revista Mexicana de Física
351.#.#.a: Artículos
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270.1.#.p: Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx
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270.#.#.d: MX
270.1.#.d: México
590.#.#.b: Concentrador
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883.#.#.a: Revistas UNAM
590.#.#.a: Coordinación de Difusión Cultural
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100.1.#.a: Martin Alfonso, Juan Antonio; Sanchez, M.
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245.1.0.a: Effect of GaN substrate thickness on the optical field of InGaN lasers diodes
502.#.#.c: Universidad Nacional Autónoma de México
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264.#.0.c: 2018
264.#.1.c: 2018-04-30
653.#.#.a: Optical field leakage, Numerical simulation, InGaN laser diodes, GaN substrates
506.1.#.a: La titularidad de los derechos patrimoniales de esta obra pertenece a las instituciones editoras. Su uso se rige por una licencia Creative Commons BY-NC-ND 4.0 Internacional, https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/legalcode.es, fecha de asignación de la licencia 2018-04-30, para un uso diferente consultar al responsable jurídico del repositorio por medio de rmf@ciencias.unam.mx
884.#.#.k: https://rmf.smf.mx/ojs/rmf/article/view/Vol.%2064%2C%20Issue%203%2C%20pp.%20254-260
001.#.#.#: oai:ojs.rmf.smf.mx:article/25
041.#.7.h: eng
520.3.#.a: In this work the influence of GaN substrate thickness on the near and far-field patterns of InGaN lasers structures is analyzed. In simulation a conventional separate confinement heterostructure of InGaN-MQW GaN AlGaN is considered. A fluctuating behavior is found, showing that for some values of the substrate thickness the near and far- field patterns can be optimized and there are critical values of the substrate thickness that produce the lowest values of the confinement factor and the higher values of the full wide half-maximum of the far field. It is also shown that by substituting the GaN contact layer by an AlxGa1-xN layer with a parabolic variation of the Al content it is possible to reduce the optical field leakage to substrate. Results indicated that properly choosing the thickness of the substrate and replacing the n-GaN contact layer by a graded-index (GRIN) AlxGa1-xN layer it is possible to improve both the confinement factor and Far field pattern in nitride lasers.
773.1.#.t: Revista Mexicana de Física; Vol 64, No 3 May-Jun (2018): 254-260
773.1.#.o: https://rmf.smf.mx/ojs/rmf/index
046.#.#.j: 2020-11-25 00:00:00.000000
022.#.#.a: 2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)
310.#.#.a: Bimestral
264.#.1.b: Sociedad Mexicana de Física, A.C.
758.#.#.1: https://rmf.smf.mx/ojs/rmf/index
doi: https://doi.org/10.31349/RevMexFis.64.254
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last_modified: 2020-11-27 00:00:00
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Martin Alfonso, Juan Antonio; Sanchez, M.
Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM
Martin Alfonso, Juan Antonio, et al. (2018). Effect of GaN substrate thickness on the optical field of InGaN lasers diodes. Revista Mexicana de Física; Vol 64, No 3 May-Jun: 254-260. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/4107109