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773.1.#.o: https://rmf.smf.mx/ojs/rmf/index

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doi: https://doi.org/10.31349/RevMexFis.64.254

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Artículo

Effect of GaN substrate thickness on the optical field of InGaN lasers diodes

Martin Alfonso, Juan Antonio; Sanchez, M.

Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM

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Facultad de Ciencias, UNAM
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Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx

Cita

Martin Alfonso, Juan Antonio, et al. (2018). Effect of GaN substrate thickness on the optical field of InGaN lasers diodes. Revista Mexicana de Física; Vol 64, No 3 May-Jun: 254-260. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/4107109

Descripción del recurso

Autor(es)
Martin Alfonso, Juan Antonio; Sanchez, M.
Tipo
Artículo de Investigación
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Effect of GaN substrate thickness on the optical field of InGaN lasers diodes
Fecha
2018-04-30
Resumen
In this work the influence of GaN substrate thickness on the near and far-field patterns of InGaN lasers structures is analyzed. In simulation a conventional separate confinement heterostructure of InGaN-MQW GaN AlGaN is considered. A fluctuating behavior is found, showing that for some values of the substrate thickness the near and far- field patterns can be optimized and there are critical values of the substrate thickness that produce the lowest values of the confinement factor and the higher values of the full wide half-maximum of the far field. It is also shown that by substituting the GaN contact layer by an AlxGa1-xN layer with a parabolic variation of the Al content it is possible to reduce the optical field leakage to substrate. Results indicated that properly choosing the thickness of the substrate and replacing the n-GaN contact layer by a graded-index (GRIN) AlxGa1-xN layer it is possible to improve both the confinement factor and Far field pattern in nitride lasers.
Tema
Optical field leakage, Numerical simulation, InGaN laser diodes, GaN substrates
Idioma
eng
ISSN
2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)

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