dor_id: 41360
506.#.#.a: Público
590.#.#.d: Los artículos enviados a la Revista Mexicana de Física se someten a un estricto proceso de revisión llevado a cabo por árbitros anónimos, independientes y especializados en todo el mundo.
510.0.#.a: Consejo Nacional de Ciencia y Tecnología (CONACyT), Sistema Regional de Información en Línea para Revistas Científicas de América Latina, el Caribe, España y Portugal (Latindex), Scientific Electronic Library Online (SciELO), SCOPUS, Web Of Science (WoS)
561.#.#.u: http://www.fciencias.unam.mx/
650.#.4.x: Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
336.#.#.b: info:eu-repo/semantics/article
336.#.#.3: Artículo de Investigación
336.#.#.a: Artículo
351.#.#.6: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf
351.#.#.b: Revista Mexicana de Física
351.#.#.a: Artículos
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270.1.#.p: Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx
590.#.#.c: Open Journal Systems (OJS)
270.#.#.d: MX
270.1.#.d: México
590.#.#.b: Concentrador
883.#.#.u: http://www.revistas.unam.mx/front/
883.#.#.a: Revistas UNAM
590.#.#.a: Coordinación de Difusión Cultural
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850.#.#.a: Universidad Nacional Autónoma de México
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100.1.#.a: Fragoso, R.; Conde Gallardo, A.; Guerrero, M.; Castillo, N.; Soto, A. B.
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653.#.#.a: Growth mechanisms; TiO2 films; metal-organic chemical vapor deposition; spray pyrolysis
506.1.#.a: La titularidad de los derechos patrimoniales de esta obra pertenece a las instituciones editoras. Su uso se rige por una licencia Creative Commons BY-NC-ND 4.0 Internacional, https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/legalcode.es, fecha de asignación de la licencia 2006-01-01, para un uso diferente consultar al responsable jurídico del repositorio por medio de rmf@ciencias.unam.mx
884.#.#.k: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf/article/view/14205
041.#.7.h: eng
520.3.#.a: Titanium dioxide thin films were deposited on crystalline silicon (100) substrates by delivering a liquid aerosol of titanium-diisopropoxide and by using oxygen and nitrogen as carrier gases. The crystalline and morphological features indicate that the films are deposited by a metal organic chemical vapor deposition process. This is strongly supported by the behavior of the growth rate rg as a function of the deposition temperature, which indicates that the film formation is limited by both, the diffusion in gas phase of the precursor species to the surface substrate and reaction of those species at that surface. Even though the rg line shape does not depend on the kind of carrier gas used to transport the aerosol, its absolute value and the activation energy EA that characterizes the surface reaction do. A fitting procedure to an equation that takes into account both limiting mechanisms (gas phase diffusion and surface reaction) yields: EA ∼=26.4 kJ/mol or EA=21.4 kJ/mol when oxygen or nitrogen is employed as carrier gas, respectively.
773.1.#.t: Revista Mexicana de Física; Vol 52, No 005 (2006)
773.1.#.o: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf
046.#.#.j: 2020-11-25 00:00:00.000000
022.#.#.a: 2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)
310.#.#.a: Bimestral
264.#.1.b: Sociedad Mexicana de Física, A.C.
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No entro en nada
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